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21. 对上前牙邻面接触点描述正确的是 ( )
A. 牙合 龈径小于唇颌径
B. 在邻面中 1/3 处
C. 在邻切面 1/3 处
D. 在邻面龈 1/3 处
E. 以上说法都不对
22. 前牙金属烤瓷唇面龈边缘最佳选择是 ( )
A. 龈上凹形边缘
B. 龈下肩台边缘
C. 龈上肩台边缘
D. 龈下凹形边缘
E. 平齐龈缘边缘
23 .桩冠预备,根尖部一般应该保留填充材料的长度为( )
A.2 ~3mm
B.0~ 2mm
C.3~ 5mm
D.5~ 7mm
E. 不保留
24 .桩冠长度要求为( )
A. 牙体长度的 1/2 ~ 1/3
B. 牙根长度的 1 / 2 ~ 1/3
C .牙体长度的 2/3 ~3/4
D. 牙根长度的 2 /3 ~ 3 /4
E .都不正确
25 .铸造金属全冠牙体预备时,轴壁正常聚合角为( )
A.0 ° ~ 2 °
B.2 °~ 5 °
C.5 °~ 10 °
D.10 °~ 15 °
E. 对聚合角度无要求
26 . 全冠牙体预备的一般顺序是( )
A. 颊舌-邻-
B. 颊舌- -邻[中医人 网 搜集整理]
C. -颊舌-邻
D. 邻-颊舌-
E. 邻- -颊舌
【 X 型题】(每空 1 分)
27 .关于附着体义齿基牙预备,下列叙述正确的是( )
A. 栓道式附着体,基牙预备时应开辟出放置附着体阴性结构的空间
B. 安置在冠内的附着体基牙牙体预备量,视冠内附着体的类型而定
C. 安置在冠外的附着体,其基牙牙体预备量与全冠相似
D. 根面附着体义齿根管预备的直径为根径的 1 /2
E. 根面附着体义齿根管预备的长度约为根长的 2/3 ~ 3 /4
28 .植义齿修复后出现慢性疼痛的原因有( )
A. 种植体折断
B. 种植体周围炎
C. 种植体末端接触有名神经
D. 支架折断
E. 上部结构松动
【填空题】 ( 每空 1 分 )
29. 义齿不稳定现象包括 ( ) 、 ( ) 、 ( ) 和 ( )
30.( ) 和 ( ) 之间的角度是可摘局部义齿的制锁角
31. 可摘局部义齿就位的方式有 ( ) 就位 ,( ) 就位 ,( ) 就位三种
32. 在架上 ,开口时上颌体向 ( ), 前伸运动时上颌体向 ( ) 运动
33. 杆式附着体是覆盖式种植义齿应用最广泛的附着体类型。根据杆的截面形态分为( ) 、 ( )和( )三种
34 .牙种植体的基本组成是:( )、( )和( )
35 .有些嵌体覆盖并高于面,用于恢复患牙咬合关系这被称为( )
36 .这被拉形的方法有( ) 、( )和( )三种
37 .前牙 3/4 冠邻沟深度为( )
【简答题】
38 .简述可摘局部义齿RPI 的特点。( 10 分)
39 .简述支托的作用。( 10 分)
40 . 架个部件与人体相应器官的关系与差异?( 15 分)
41 .如何保证种植义齿的稳定?( 15 分)
42 .对于PFM 全冠的金属基底的要求是什么?( 15 分)
【参考答案】
1.C 2.E 3.B 4.C 5.C 6.C 7.B 8.E 9.D
10. B 11.E 12.E 13.B 14.B 15.E 16.B 17.E 18.E 19.B
20.A 21.C 22.D 23.C 24.D 25.B 26.C 27.ABCD 28.BC
29. 翘起 摆动 旋转 下沉
30 .就位道 脱位道
31 .垂直 斜向 旋转
32 .上 后
33 .圆杆 卵圆杆 方圆形而唇舌向平行杆
34 .体部 径部 基桩
35 .高嵌体
36 .直接法 间接法 间接直接法
37 . 1mm
38 . RPI 卡环的总体特点:
( 1 )鞍基受载后,Ⅰ型杆离开基牙牙面,邻面板下移,减小了对牙基的扭力;
( 2 )近中 牙合 支托的小连接体和邻面的拮抗作用,保证了义持戴入时卡环的交互作用,不需要再设计舌侧对抗臂平;
( 3 )近中 牙合 支托对基牙的扭力小;
( 4 )Ⅰ型杆与牙面接触面积小,较美观,针对Ⅰ型杆稳定作用差的弱点,该组合内设计有稳定作用极强的邻面板。
39. 支托是卡环体向基牙 牙合 面方向延伸的部分,具有较高强度,主要作用是防止义齿纵向移位,起支持作用,并使力向基牙的方向传导。 支托还有一定稳定作用。 此外, 支托还用于防止食物嵌塞,加大的支托用于恢复咬合关系不良的咬合关系等。
40. 架是模拟人体的咀嚼其管结构和功能的仪器,有与人体结构相对应的部件组成:人体上的上颌骨对应 架的上颌体;人体上的下颌骨对应架的下颌体;人体上的下颌升支对应架上的侧栓;人体上的髁突、关节凹对应架上的髁球和髁槽;人体左右髁突间的假想连线对应 架上的髁杆;人体上与髁突相应的面部皮肤表面对应架上的髁杆外端;人体上的切道对应架上的切导;人体上的切道斜度对应架上的切导斜面;人体上的髁道对应架上的髁导;人体上的髁道斜度对应架上的髁导斜度。 架在运动方向、结构连接等与人体咀嚼器官的差异:在架上开口时上颌体向上而在人体上下颌向下;在架上前伸颌运动时上颌体向后而在人体上下颌向前;在架上侧方运动时上颌体反向运动而在人体上下颌顺向运动;在架上 Nonarcon 架髁球位于上颌体,髁槽位于下颌体,而在人体上髁突位于下颌关节凹位与上颌。
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